微波等离子体化学气相沉积系统:ARDIS 300

 

微波等离子体化学气相沉积系统:ARDIS 300适合于多晶,单晶和纳米晶金刚石薄膜制备,以及纳米管,纳米线制备,镀膜,研究和生产。操作的基本原理是由微波放电形成的等离子体沉积合成金刚石。

 

ARDIS 300技术参数:

MW功率

6 千瓦@2.45 GHz

反应气体

可达5种,

H2 – 1000 sccm
O2 – 50 sccm
CH4 – 200 sccm
N2 – 1000 sccm
Ar – 1000 sccm

气处理压力

20-500  Torr

样品尺寸

可达100 mm (4″)

基低温度

可达1200°C

生长率

6mkm/小时(多晶)100mkm/小时(单晶),

1mkm=1μm

可视窗口

5个70mm CF石英窗口

真空腔

水冷真空不锈钢腔

附加选项

Z偏移,双光束高温计,直流偏置

操作系统

Windows操作系统,合成过程由Control Ardis程序控制

尺寸

1660x  880x 1840(mm),长x宽x高

 

ARDIS 300主要特点:

6 千瓦,2.45 GHz

可移动载物台 50 mm

小泄漏 < 10-9 torr·l/s

高真空 < 10-7 torr

纯度非常高

单个集成模块,方便进行维修和维护

 

ARDIS 300制备金刚石过程:

1) 将氢气和碳氢化合物的混合物加入到腔室中。通常使用百分之几的甲烷。

2) 气体被强大的微波辐射电离,产生等离子体。

3) 等离子体产物,特别是原子氢和烃基,与基底表面相互作用。

4) 根据基底的选择和生长模式,可以生长各种各样的金刚石材料。典型工艺使用1000℃以上的温度和金刚石基底外延生长单晶金刚石。多晶金刚石和金刚石镀膜通常在700℃以上的硅基底上生长。

ARDIS 300利用耐热和化学稳定的材料,如钼,以及对参数和等离子体的精确控制,以实现数百小时的稳定和可重复的生长条件。  

 

ARDIS 300应用:

电子学:半导体、微电子器件热沉,声学电子器件,MEMS,传感器,MW场效益晶体管

光学:高功率红外窗口器件,腐蚀性环境光学窗口器件,拉曼激光器

MW器件:超高功率振动陀螺和调速管窗片,非吸收辐射元件

医学、生态学:生物传感器,生物相容性涂层,用于水清洁电解的耐腐蚀电极(掺杂B和N的金刚石)

工具:钻石和宝石镀膜

 

相关图片:

CVD工艺示意图

 

金刚石薄膜的微观结构

 

ARDIS 300应用

 

关于OptoSystems公司:

OptoSystems雇员超过40人,最重要的产品是准分子激光器。同时OptoSystems公司还开发出准分子激光器视力屈光矫正系统(LASIK),该系统已经获得中国政府颁发的销售许可证,并有数台已经在中国安装。OptoSystems公司的产品线还包括脉冲CO2激光器,YAG激光器等。

 

资料下载:

ARDIS 300

我要留言

姓名: 电话: 邮箱:
职务: 地址:
内容:
   
相关推荐

北京总部

地址:海淀区中关村333号楼二层201室

Add.No. 84-8 Zhongguancun East Road, Haidian District, Beijing, P.R.China

电话:010-62565117

邮箱:info@pulsepower.cn

江苏办事处

地址:无锡市梁溪区解放北路55号1517室

电话:0510-85175819

邮箱:info@pulsepower.cn

深圳营业部

地址:深圳市南山区桃源街道平山二
路南山云谷创新产业园2期6栋213

邮箱:info@pulsepower.cn

成都联络点

地址:成都市新都区大丰街道金隅上城郡

邮箱:info@pulsepower.cn