激光等离子体

13.5nm EUV光源产品-TEUS系列，具有高亮度和低碎片。
自从业界选择走EUV之路以来，ISTEQ Group一直在研究这项技术。开发出了一种基于激光等离子体（LPP）的EUV源。该光源具有极高的亮度和极高的稳定性。它还具有可刷新的燃料，不会中断供应，也无需更换燃料盒，因此为整个行业带来了极高的运行效率。
ISTEQ为LPP源所开发的燃料是针对特定应用的光谱范围而设计的。此外，对于掩模检测应用，开发了一种高频锡旋转靶，该技术已在全球范围内获得专利。
得益于在该领域积累的经验和专业知识，所采用的用于生产EUV的技术相较于其他竞争对手具有诸多优势。ISTEQ的XWS光源产品经过专门开发，可用于各种应用，包括光谱学、高分辨率显微镜、薄膜测量、表面计量学等。这些光源基于前沿技术，并拥有全球范围内的专利保护。

主要技术参数：

主要优势：
高亮度（意味着高吞吐量）和出色的稳定性
绝对最小碎片
极高的运行时间
高工作周期和交钥匙式操作
 

相关图片：

运用：
掩膜与表面检测
图案掩模检查（PMI）
面积型掩膜检测（AIMS）
掩膜毛坯检测（MBI）
EUV扫描仪中的EUV光学链检测
材料科学
晶圆检测

关于ISTEQ 公司
ISTEQ 是一家总部位于荷兰埃因霍温高科技园区的荷兰公司。
ISTEQ 及其合作伙伴为各种工业应用开发了最先进的光源：主要是半导体、材料分析和光谱学以及其他应用。