CVD系统:ARDIS 300X

用于生长单晶与多晶金刚石的微波等离子体化学气相沉积系统
         自2005年以来，致力于化学气相沉积法合成金刚石的系统研发与制造
         自首款系统问世以来，我们不断积累并系统化关于CVD合成工艺的独特知识。这不仅使我们能够持续优化技术方案，还能前瞻性地预判客户所面临的各类挑战。
         在工业与科研环境中的多年设备运行经验，确保了其技术的成熟性、工艺的稳定性，并符合当前合成功能性碳材料的各项要求。

应用：
        专为化学气相沉积制备多晶、单晶及纳米晶金刚石薄膜，以及用于各类应用的碳纳米管而设计
         1.宝石
         2.电子
         3.光学

等离子体化学法金刚石合成：
         通过化学气相沉积法培育钻石，可获得以往无法达到的尺寸与极高纯度的钻石样品，其兼具独特的电子、光学、热学与力学性能。
         最高10 kW
         微波源功率，频率2.45 GHz

金刚石化学气相沉积工艺:
         1.气体混合物供应
         将甲烷（CH?）与氢气（H?）的混合气体以几百分比的碳氢化合物与氢气的比例通入真空腔
         2.微波等离子体产生
         强大的微波辐射（最高6千瓦，2.45 GHz）可在腔体内产生并维持高温等离子体
         3.分子解离
         在等离子体中，气体解离生成活性自由基——原子氢以及含碳粒子（CH?、C?H?）
         4.在基底上的沉积
         碳自由基沉积在加热的基底上（最高可达1200 °C），形成金刚石晶体结构中的sp³键
         5.晶体成长
         原子氢可选择性去除石墨（sp²）相，仅留下金刚石。单晶的生长速率可达100 µm/h

实时监测：
         通过实时视频控制，实现生长过程的全自动化监测与远程诊断
         600–1400 °C
         基底温度控制范围为600–1400 °C。高精度温度测量
         稳定的等离子体
         适用于宽泛的压力、功率及基底托架几何形状
         20–300 Torr
         宽广的工作压力范围显著提高单晶金刚石的生长速率

技术规格:
          ARDIS 300X系统的关键技术参数
          1.微波系统
           微波源功率:10 kW
           磁控管频率:2.45 GHz
          2.气体系统
          气体通道数量:4个（可选最多6个）
           硼掺杂通道:选项
           气体流量（典型值）:1000 sccm
          3.腔体与基片托盘
          工作气体压力:20–300 Torr
          最大基片直径:100 mm
          基片温度控制:600–1400 °C
          真空腔:不锈钢
          台面:铜/钼
          诊断窗:5个
          4.真空系统
          可达到的前级真空:≤2×10?²托
          采用涡轮分子泵时可达到的真空:<10?? 托
          反应器腔体漏率:≤2×10?³ 托/小时
          5.冷却系统
          类型:双回路，水-水（可选水-风冷水机组）
          6.控制系统及选件
          基底直流偏置电压:300 V（可选）
          射频偏置 13.56 MHz:600 W（可选）
          控制单元:PLC 或 PAC
          7.电源
           系统电源:220/380 V,50Hz
           功耗（最大）:20 kW

ARDIS 300设备安装与运行的机房要求：
            1.运行机房要求
            最小面积:10平方米
            最小高度:3.5米
            门洞宽度:至少950毫米
            地面:瓷砖/大理石，承重500千克，表面光滑
            天花板和墙面:不得释放外来颗粒
            2.公共设施
            冷却:3–6 atm，≥5 L/min，20–25 °C
            压缩空气:4–5 atm，≤1 m³/h
           工艺气体:H?、N?、CH?、O?，压力4–5 atm
           排水:≥6 L/min（如需）
           3.电源
           电源:380 V，50 Hz，40 A，三相
           接地:外部接地回路
          4.气候与安全
           散热:最高1千瓦（系统）+9千瓦（制冷）
           通风:排风，≥16立方米/小时
           灭火:二氧化碳灭火器
           环境:最高35℃，湿度最高80%

OptoSystems公司介绍:
           OptoSystems公司雇员超过140人。产品有准分子激光器，CO2激光器等。同时OptoSystems公司还开发出准分子激光器视力屈光矫正系统（LASIK），该系统已经获得中国政府颁发的销售许可证，并有数台已经在中国安装。准分子激光器是传统的气体激光器，由于波长短（紫外），短脉冲宽度，高脉冲能量，是激光器家族不可替代的品种！应用上，准分子激光器在脉冲沉积镀膜（PLD），光纤光栅刻写，LASIK，光刻，微纳加工等方面占主导的地位。