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化学气相沉积镀膜系统 ARDIS 300


微波等离子体化学气相沉积系统:ARDIS 300


微波等离子体化学气相沉积系统:ARDIS 300适合于多晶,单晶和纳米晶金刚石薄膜制备,以及纳米管,纳米线制备,镀膜,研究和生产。

ARDIS 300技术参数:


MW功率

600-6000W,  fr. 2.45GHz

气通道数量

4通道,允许气流调节范围0.3.60 Vhr

气处理压力

20-500  Torr

气体混合

原始气体: H2/CH4Ar/H2/CH4参杂气体: N2O2, B

探品尺寸(通常值)

100mm

基低温度

到1400°C

生长率

6μm/小时(多晶)100μm/小时(单晶)

可视窗口

5个石英窗口

真空腔

水冷真空不锈钢腔

操作系统

Windows兼容的CCDSys系统控制软件

尺寸

1850x  1100x 1755(mm),长x宽x高


ARDIS 300主要特点:


6 千瓦,2.45 GHz

可移动载物台 50 mm

小泄漏 < 10-9 torr·l/s

高真空 < 10-7 torr

纯度非常高



相关图片:


应用:


电子学:半导体,微电子器件热沉;声学电子器件,MEMS,传感器;MW场效益晶体管

光学:高功率红外窗口器件;腐蚀性环境光学窗口器件;拉曼激光器

MW器件:超高功率振动陀螺和调速管窗片;非吸收辐射元件

工具:钻石和宝石镀膜



关于俄罗斯OptoSystems公司:

      俄罗斯OptoSystems公司位于莫斯科,隶属于俄罗斯科学院基础物理研究所物理仪器中心(Physics Instrumentation  Center,A.M.Prokhorov’s General Physics Institute)。雇员超过40人。俄罗斯OptoSystems公司最重要的产品是准分子激光器。同时OptoSystems公司还开发出准分子激光器视力屈光矫正系统(LASIK),该系统已经获得中国政府颁发的销售许可证,并有数台已经在中国安装。俄罗斯OptoSystems公司的产品线还包括脉冲CO2激光器,YAG激光器等。


资料下载:

ARDIS 100





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